• 2025-12-19
可替代EUV光刻机 工艺直逼1.4nm 日本开发全新纳米压印技术

12月18日最新消息,尽管在EUV光刻机领域已退出主流竞争,日本仍稳居全球第二大光刻设备供应国地位。近年来,多家日本企业持续加码研发可绕过EUV的新型光刻技术,其中NIL(纳米压印光刻)成为重点攻关方......

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